CO2、Nd:YAG、ファイバーレーザーなど、あらゆる波長のレーザーに対応する加工用レーザーヘッド。
加工用レーザーヘッド HAAS Laser Technologies 加工プロセスヘッド
HAAS Laser Technologies Inc.
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CO2、Nd:YAG、ファイバーレーザーなど、あらゆる波長のレーザーに対応する加工用レーザーヘッド。
HAAS Laser Technologies Inc.
M2測定器にアップグレード可能なビームプロファイラー!
BA-CAMセンサー(標準タイプ) | |
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センサー | CMOS |
解像度 | 2048×2048 |
画素サイズ | 5.5×5.5µm |
実効エリア | 11.26mmx11.26mm |
フレームレート | <50fps |
インターフェース | GigE RJ45 |
サイズ | 59.3mmx37.3mmx37.3mm |
重量 | 120g |
測定波長 | 190~1100nm |
HAAS Laser Technologies Inc.
レーザー光学部品や光ファイバー製品用クリーニング液とクリーニングペーパー
Sticklers
高スループットラマンプローブシステム
パラメーター | |
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励起オプション | Multi-mode 785 nm wavelength stabilized laser <0.15 nm FWHM bandwidth (0.1 nm typical) |
Multi-mode 785 nm wavelength stabilized laser <0.1 nm FWHM bandwidth (0.07 nm typical) Ask about this option |
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Single-mode 785 nm TEM00 wavelength stabilized laser < 100 MHz FWHM bandwith |
Innovative Photonics Solution
高スループットラマンプローブ
パラメーター | |
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励起オプション | Multi-mode 785 nm wavelength stabilized laser <0.15 nm FWHM bandwidth (0.1 nm typical) |
Multi-mode 785 nm wavelength stabilized laser <0.1 nm FWHM bandwidth (0.07 nm typical) Ask about this option |
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Single-mode 785 nm TEM00 wavelength stabilized laser < 100 MHz FWHM bandwith |
Innovative Photonics Solution
最高性能のエレクトロニクスで最高の周波数安定化を!
Vescent
高出力レーザービームを遮断、吸収!
ビームダンプ水冷仕様(キロワットクラス対応モデル:BD-50-K)
流量 | 6 gpm(ガロン/分)= 22.7 リットル/分 |
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圧力 | 80 psi(ポンド/平方インチ)= 0.55 MPaを超えないこと |
チューブ外径 | 12 mm |
ビームダンプ水冷仕様(標準タイプ:BD-25)
流量 | 0.5 gpm(ガロン/分)= 1.9 リットル/分 |
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圧力 | 80 psi(ポンド/平方インチ)= 0.55 MPaを超えないこと |
チューブ外径 | 6 mm |
HAAS Laser Technologies Inc.
高出力レーザー対応アジマス、ラジアルコンバーター!
材料 | UVFS, IRFS |
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開口 | Φ2mm-Φ15mm |
対応波長 | 343nm-3μm |
Altechna
複数のビームの変調、偏光に!
下記一覧にないモデルもございますので、お気軽にお問い合わせください。
カスタム品についてもご相談ください。
モデル | 波長帯域 | Ch数 | Rise/fall time | 開口 | 駆動周波数 | 結晶 | |
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AOMC 3160-8 | UV | 364nm | 8 | 21ns | 0.18mm | 160MHz | Fused Silica |
AOMC 125-24 | UV | 350-365nm | 24 | 23ns | 0.5mm | 125MHz | Crystalline Quartz |
AOMC 220-5 | UV | 413nm | 5 | 16ns | 0.24mm | 220MHz | Crystalline Quartz |
AOMC 220-4 | UV | 350-365nm | 4 | 16ns | 0.24mm | 190-250MHz | Crystalline Quartz |
AOMC 300-5 | UV | 413nm | 5 | 10ns | 0.2mm | 300MHz | Crystalline Quartz |
AOMC 3350-6 | Visible | 350-850nm | 6 | 7ns | 0.33mm | 350MHz | Tellurium Dioxide |
Gooch&Housego
モードロック≦100fsecフェムト秒Er(エルビウム)ファイバーレーザー!
中心波長 | 1560nm ±10nm |
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出力 | >100mW (with EDFA) |
パルス幅 | ≦100fsec |
波長幅 | ≦40nm |
繰返し周波数 | 80,100,200,250MHz |
ポンプ光変調帯域 | 1MHz |
消光比 | ≧20db |
Vescent
エンコーダー付きピエゾモーター
NANOS Instruments
1psec~30fsecの超短パルスレーザーをパルス圧縮可能なパルスコンプレッサー
GLOphotonics
アプリケーション、レーザー光源の仕様、ハウジングなどのご要望にあわせたフォトニックマイクロセルを提案できます。
GLOphotonics
高出力超短パルスレーザーを低損失でファイバーレーザー化できるビームデリバリーシステム(BDS)
ファイバー長 | 2m, 3m, 5m |
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出力ビームクオリティ | M2<1.3 |
ガス/真空継手 | KF16 |
ファイバー保護 | メタリックモノコイル |
最低曲げ半径 | 200㎜ |
動作波長 | 1030 nm/ 1064 nm |
減衰 | <50 dB/km |
分散 | 1 ps/nm/km ± 0.5 |
伝送帯域 | >200 ㎜ |
入力ビーム径 | 2.9 mm ± 0.1 |
曲げ損失 | <1 dB @20 cm 曲げ半径 |
ファイバー長 | 2m, 3m, 5m |
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出力ビームクオリティ | M2 <1.3 |
ガス/真空継手 | KF16 |
ファイバー保護 | メタリックモノコイル |
最小曲げ半径 | 200 ㎜ |
動作波長 | 515 nm / 532 nm |
減衰 | < 100 dB/km |
分散 | 1 ps/nm/km ± 0.5 |
伝送帯域 | > 100 nm |
入力ビーム径 | 3 mm ± 0.1 |
曲げ損失 | <1 dB @20 cm 曲げ半径 |
GLOphotonics
エンコーダー内蔵ピエゾモーターステージ
ストローク | 20mm-50mm |
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分解能 | 2nm |
最大速度 | 8mm/s(無負荷時) |
最大荷重 | <0.5kg |
サイズ | 45×45×14mm |
PRECIBEO
ピエゾモーターステージ
NANOS Instruments
熱レンズ効果を補償する光学系
波長 | 900~1100 nm |
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焦点距離 | 35~500 mm (開口径によって異なる)、カスタマイズ可 |
ファイバーコネクター | QBH、QD、HLC-16 他 |
開口径 | 15、30、50 mm |
ダメージしきい値 | 20 J/cm2, 20 ns, 20 Hz; 1 MW/cm2 CW |
冷却方式 | 空冷または水冷 |
水冷時チラー条件 | Flow rate 1 gpm (= 3.79 L/min)、Pressure Not exceed 80 psi (=0.55 MPa) |
HAAS Laser Technologies Inc.
超短パルスレーザーや257nm~2000nmまで伝送可。ハイパワー、高エネルギー対応、低分散、パワー損失が極めて少ない中空コアフォトニック結晶ファイバー。
対応波長域 | 257nm-2000nm |
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GLOphotonics
ご用途にあわせた波長でテラヘルツ波の生成が可能!!
波長範囲 | 800nm,1250~1500nm |
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損傷閾値 | (製品による) |
サイズ | 3mm~8mm(製品による) |
Terahertz innovations
世界最小級、わずか6g!クローズドループ制御可能の高速アクチュエーター
ストローク | 5-185mm |
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保持力 | 1N/3N |
アクチュエーター材質 | 陽極酸化アルミニウム(ハウジング)、ステンレススチール(ロッド、ハウジングカバー) |
寸法 | 22.7 x 14.8 x 5.4 mm(アクチュエーター部分) |
Xeryon