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レーザー用オプティクス　ミラー

レーザー用オプティクス　Autex　ミラー

Autex
世界最高クラスのを誇る透過型グレーティング

高効率透過型グレーティング　Gitterwerk　回折格子

対応波長 266nm～1975nm

サイズ～135mm

溝数 800 l/mm～ 2500 l/mm

厚み 3mm or 6.35mm

材料 fused silica

Gitterwerk
ファイバーレーザー作成、ファイバー系での変調に必須の低挿入損失、高消光比のファイバーAOM、ファイバーパルスピッカー

音響光学素子　Gooch&Housego　ファイバーカップリングAOモジュレーター

対応波長帯域 450 ～ 2000nm

中心周波数 40 ～ 300MHz

ファイバー PM, SM

Rise/Fall time 6nsec ～ 100nsec

媒質 TeO2, Amtir, Silicon

Gooch&Housego
インプリントDOE

インプリントDOE　HighRI Optics　フレネルファイバーレンズ/コリメートレンズ/ボルテックスファイバーフェイズプレート

HighRI Optics
ピエゾモーターステージ

自動ステージ　NANOS Instruments　ピエゾモーターステージ

NANOS Instruments
ご用途にあわせた波長でテラヘルツ波の生成が可能！

結晶　Teraherz Innovations　ハイパワー用テラヘルツ各種結晶

波長範囲 800nm, 1250~1500nm

損傷閾値（製品による）

サイズ 3mm~8mm（製品による）

Terahertz innovations
独自技術LD励起型チタンサファイアフェムト秒レーザー

超小型チタンサファイアフェムト秒レーザー　800nmフェムト秒レーザー

VIULASE

対応波長	266nm～1975nm
サイズ	～135mm
溝数	800 l/mm～ 2500 l/mm
厚み	3mm or 6.35mm
材料	fused silica

対応波長帯域	450 ～ 2000nm
中心周波数	40 ～ 300MHz
ファイバー	PM, SM
Rise/Fall time	6nsec ～ 100nsec
媒質	TeO2, Amtir, Silicon

波長範囲	800nm, 1250~1500nm
損傷閾値	（製品による）
サイズ	3mm~8mm（製品による）

優れた安定性と操作性のグレーティングマウント！

マウント/ステージ　Siskiyou　グレーティングマウント（デモ機あり）

ハーフインチ用	Pitch 8°Yaw8°Roll8°　最小調節角度　Pitch 5.1 arc sec Yaw 3.7 arc sec Roll 7.3 arc sec
1インチ用	Pitch 8°Yaw8°Roll8°　最小調節角度　Pitch 5.1 arc sec Yaw 3.7 arc sec Roll 7.3 arc sec
2インチ用	Pitch 6°Yaw7°Roll6°　最小調節角度　Pitch 3.6 arc sec Yaw 4.0 arc sec Roll 6 arc sec

Siskiyou

稼働軸	3軸
ストローク	10～120mm
分解能	1.25µm～１nm
推進力	1～3N
サイズ	30x34x13㎜～120x49x13㎜
真空オプション	10＾-6mbar

稼働軸	1軸
ストローク	10mm
分解能	1.25µm～１nm
推進力	15N
サイズ	80x80x40㎜
真空オプション	10＾-9mbar

ストローク	20mm-50mm
分解能	2nm
最大速度	8mm/s(無負荷時)
最大荷重	<0.5kg
サイズ	45×45×14mm

真空度10-6 mbar対応！エンコーダー内蔵真空対応ピエゾモーターステージ！

自動ステージ　PRECIBEO　真空対応エンコーダー内蔵ピエゾモーターステージ

ストローク	20mm(35mm,50mmについてはお問い合わせください)
分解能	2nm(35mm,50mmストロークは4nm)
最大速度	8mm/s(無負荷時)
最大荷重	<0.5kg
サイズ	45×45×14mm

PRECIBEO

ストローク	XYZ±10mm,Θ(XYZ)±10°
分解能	2nm
最大速度	8mm/s(無負荷時)
最大荷重	1kg

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