High-E Photonicsは、オーストラリア首都キャンベルを開発製造拠点としており、科学・産業における最先端アプリケーション向けに、高効率パルスおよびCWレーザー光源の設計・製造を行っています。強力で信頼性の高いレーザーシステムは、高精度と高性能を追求して設計されており、高度な研究や産業プロセスを可能にします。お客様のニーズに合わせて柔軟なレーザーパラメータを提供します。
フェムト秒/ピコ秒/ナノ秒レーザー High-E Photonics Tm:YLFレーザー
メーカー：
カテゴリ：
アプリケーション：
Tm:YLFレーザー
High-E Photonicsのシステムは、高効率、高パルスエネルギー、そして産業用途における信頼性を実現する最先端のパルスレーザーソリューションを専門としています。カスタムパルスパラメータから、要求の厳しい科学・産業用途向けに最適化された設計まで、個別の要件に合わせてカスタマイズされたレーザーシステムを設計・提供しています。モノリシック設計による安定性の向上と、モジュール構成による最大限の柔軟性の実現に重点を置き、過酷な環境下でも精度、信頼性、そして適応性を兼ね備えたシステムを提供します。
製品特徴
1μm帯レーザー
波長:1030 - 1064nm
エナジー:1mJ to 100mJ
パルス幅:sub-picosecond to nanosecond
出力:100W to 500W
M²:< 1.3
上記仕様範囲内からご希望仕様をご相談下さい。
1.5μm帯レーザー
波長:1500nm
エナジー:1mJ
パルス幅:picosecond to nanosecond
出力:100W
M²:< 1.3
上記仕様範囲内からご希望仕様をご相談下さい。
2μm帯レーザー
波長:1670 - 2300nm
エナジー:1mJ to 100mJ
パルス幅:sub-picosecond to nanosecond
出力:100W to 500W
M²:< 1.3
上記仕様範囲内からご希望仕様をご相談下さい。
J-クラス ハイエナジーシステム
エナジー:1J - 100J
オプション
基本的にセミカスタム品となりますため、ご要求仕様をお知らせください。
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