微細/非熱加工

ピコ秒レーザー　Teemphotonics YAGレーザー(デモ機あり)

ハイエナジー&高繰り返しモノリシックキャビティピコ秒レーザー　Pico Spark (繰り返し周波数固定タイプ)

ピコ秒レーザー　Teemphotonics YAGレーザー(デモ機あり)

シリーズ	モデル名	エネルギー (μJ)	平均出力 (mW)	繰り返し (kHz)	パルス幅 (ps)	ピーク出力 (kW)
1064nm レーザー仕様
Pico Spark	HNP-70F	＞80	＞5000	＞70	＜600	＞130
532nm レーザー仕様
Pico Spark	HNG-70F	＞50	＞4000	＞70	＜550	＞100

Teem Photonics

ナノ秒レーザー　　Compact Laser　固体レーザー

ウルトラコンパクトサイズ、小型高出力Q-Switchナノ秒レーザー　

ナノ秒レーザー　　Compact Laser　固体レーザー　　

	1064-6-HF	1064-6-HE	1064-10-HF	1064-10-HE	1064-16-HF
Mode of operation	Pulsed	Pulsed	Pulsed	Pulsed	Pulsed
Power class	6W	6W	10W	10W	16W
Wavelength	1064nm	1064nm	1064nm	1064nm	1064nm
Beem quality	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀
* M²	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3
Polarization	Liner ＞ 100:1
Max pulse energy	350μJ	700μJ	350μJ	700μJ	350μJ
Minimal pulse width	10ns	8ns	10ns	12ns	10ns
Repetition rate	1HZ-500kHz	1HZ-100kHz	1HZ-500kHz	1HZ-100kHz	1HZ-500kHz
Aver output power	6W@50kHz	6W@50kHz	10W@50kHz	10W@50kHz	16W@60kHz
Laser class	4
Cooling	air cooler optional water cooled
Cooling system	thermo electric cooling
Electical ratings	24V DC
Power consumption	＜200W

	532-3-HF	532-3-HE	532-8-HF	532-8-HE	532-12-HF
Mode of operation	Pulsed	Pulsed	Pulsed	Pulsed	Pulsed
Power class	3W	3W	8W	8W	12W
Wavelength	532nm	532nm	532nm	532nm	532nm
Beem quality	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀
* M²	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3
Polarization	Liner ＞ 100:1
Max pulse energy	200μJ	550μJ	350μJ	550μJ	350μJ
Minimal pulse width	8ns	9ns	9ns	12ns	9ns
Repetition rate	1Hz-500kHz	1Hz-100kHz	1Hz-500kHz	1Hz-100kHz	1Hz-500kHz
Aver output power	3W@40kHz	3W@6kHz	8W@40kHz	8W@12kHz	12W@60kHz
Laser class	4
Cooling	air cooler optional water cooled
Cooling system	thermo electric cooling
Electical ratings	24V DC
Power consumption	＜200W

	355-1-HF	355-1-HE	355-3-HF	355-3-HE	355-6-HF
Mode of operation	Pulsed	Pulsed	Pulsed	Pulsed	Pulsed
Power class	1W	1W	3W	3W	6W
Wavelength	355nm	355nm	355nm	355nm	355nm
Beem quality	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀	TEM₀₀
* M²	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3	＜ 1.3
Polarization	Liner ＞ 100:1
Max pulse energy	80μJ	12μJ	8μJ	12μJ	8μJ
Minimal pulse width	4ns	12ns	8ns	12ns	8ns
Repetition rate	1Hz-500kHz	1Hz-100kHz	1Hz-500kHz	1Hz-100kHz	1Hz-500kHz
Aver output power	1W@40kHz	1W@40kHz	1W@40kHz	1W@40kHz	1W@40kHz
Laser class	4
Cooling	air cooler optional water cooled
Cooling system	thermo electric cooling
Electical ratings	24V DC
Power consumption	＜200W

Model	MONOLITH CORE 266_1
Mode of operation	Pulsed
Power class	1W
Wavelength	266nm
Max pulse energy	280μJ@1kHz
Minimal pulse width	6ns
Repetition rate	1Hz-100kHz
Aver output power	1W@10kHz
Cooling	air cooled
Electical ratings	24V DC

Compact Laser

ファイバー技術をベースとした　KHz、mJ クラスのハイパワーパルスファイバーレーザー

フェムト秒レーザー　　Active Fiber Systems 　ファイバーレーザー

Active fiber systems
True nano Tech 薄型高剛性ステージ

自動ステージ　　ALIO Industries　XYステージ（デモ機あり）

ストローク 30-450㎜

繰り返し精度 ±30nm

分解能 <5nm

最大速度 0.5-1.0m/sec

ALIO Industries

自動ステージ　　ALIO Industries　XYZステージ

小型高剛性3軸ステージ

自動ステージ　　ALIO Industries　XYZステージ

Xストローク	30㎜	60㎜
Yストローク	30㎜	60㎜
Zストローク	30㎜	30㎜
繰り返し精度	±30nm	±30nm
最大負荷	お問い合わせください。
走り精度	お問い合わせください。

ALIO Industries

レーザービームアナライザーシステム　　HAAS Laser Technologies　（M<sup>2</sup>測定器）（デモ機あり）

M²のリアルタイム計測を実現！

レーザービームアナライザーシステム　　HAAS Laser Technologies　（M²測定器）（デモ機あり）

BWA-CAM

測定M²値	1～40（実績値）
主なリアルタイム測定データ	M²、BPP、ビーム径、レーリーレンジ
ビーム径	50～2000 µm（2Mピクセルカメラ使用）
波長	325～1100 nm
測定パワー（最大）	CW：30 kW @ 1075 nm（実績値）、パルス：1 GW/cm2 @ 800 nm　＊外部アッテネーター使用
主な機能	3D表示、自動レポート作成、QCチェック、ログ記録
インターフェース	ギガビットイーサネット
エクスポートデータ	データシート、RAWデータ
計測時間	40～166 msec（PC性能による）
繰り返し測定精度	< ±0.5%
キャリブレーション	自動 or ユーザーによる手動

HAAS Laser Technologies Inc.

自動アクチュエーター　　Piezosystem Jena　対物レンズ用アクチュエーター/フォーカシングポジショナー

高剛性！対物レンズ用アクチュエーター

自動アクチュエーター　　Piezosystem Jena　対物レンズ用アクチュエーター/フォーカシングポジショナー

	ストローク	分解能	センサータイプ
MIPOS 20	20um / 16um	0.04nm/1nm(SG)	SG
MIPOS 100	100um / 80um	0.2nm/2nm(SG)	SG
MIPOS 250	250um / 200um	0.5nm/5nm(SG)/1nm(CAP)	SG/CAP
nano MIPOS 400	400um / 320um	0.8nm/1nm(CAP)	CAP
MIPOS 500	500um / 400um	0.9nm/12nm(SG)	SG
MIPOS 600	600um / 500um	0.9nm/12nm(SG)	SG

Piezosystem Jena