ナノ秒レーザー ATL LaserTechnik エキシマレーザー
ATL LaserTechnik社について
1993年各所で活躍していたエキシマレーザーのエキスパートが参加し、次世代小型高繰り返しで医療用途にも使用できるメインテナンスの容易なショートパルスエキシマレーザーを開発しました。トータルメタルセラミックチャンバー、サイラトロンを使用しない高電圧スイッチ、特許取得のOPECによる性能の効率化、ガス交換も含めPC上でのパラメーター操作、容易な光学系メインテナンス等、数々の重要な機構に新しい発想と技術を投入し、ユーザーサイドに立った製品がリリースされています。
小型・高繰り返しショートパルスエキシマレーザー
1993年各所で活躍していたエキシマレーザーのエキスパートが参加し、次世代小型高繰り返しでメンテナンスの容易なショートパルスエキシマレーザーを開発しました。オールセラミックチャンバー、サイラトロンを使用しない高電圧スイッチ、特許取得のOPECによる性能の効率化、ガス交換も含めPC上でのパラメータ操作、光学系メインテナンス等、数々の重要な機構に新しい発想と技術を投入し、ユーザーサイドに立った製品がリリースされています。
・HV-SSPによる予備電離ソフトコロナ放電
・TMC (Total-Metal-Ceramic) チャンバー
・真空ポンプとハロゲンフィルタは内蔵
・外部制御用にRS-485, RS232, USB 、光インターフェースが標準装備
・アクティブサーマルマネジメントによる完全空冷
・メンテナンスを考慮した内部ユニット構造
・運転モードにはエネルギー安定モードを搭載
製品特徴
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加工例
25 micron hole in polyamide (Courtesy of Resonetics Inc.)
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加工例
Precise holes drilled in a fine Nylon tube
(Courtesy of Resonetics Inc.) -
加工例
SEM of homogenized craters in zircon.
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加工例
Pulse length 4 ns
(ATLEX-M)
仕様
| モデル ATLEX- | 300-I | 500-I | 1000-I | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ガス | F2 | ArF | KrF | XeCl | XeF | ArF | ||||||
| 波長(nm) | 157 | 193 | 248 | 308 | 351 | 193 | ||||||
| 最大繰り返し周波数(Hz) | 300 | 500 | 1000 | |||||||||
| 最大パルス エネルギー(mJ) |
1 | 10 | 15 | 8 | 7 | 10 | ||||||
| 平均出力(W) | 0.2 (300-I) |
1 (500-I) |
2 (300-I) |
4 (500-I) |
4 (300-I) |
7 (500-I) |
2 (300-I) |
3 (500-I) |
2 (300-I) |
3 (500-I) |
8 (1000-I) |
2.4 (300-FBG) |
| パルス幅(ns) | 5-8 | |||||||||||
| モデル ATLEX- | 300-FBG | 500-FBG | LR | S | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ガス | ArF | KrF | ArF | ArF | KrF | ||||||
| 波長(nm) | 193 | 248 | 193 | 193 | 248 | ||||||
| 最大繰り返し周波数(Hz) | 300 | 500 | – | 300 | 500 | 300 | 500 | ||||
| 最大パルス エネルギー(mJ) |
10 | 15 | 12 | 10 | 15 | ||||||
| 平均出力(W) | 4 (500-FBG) |
10 (1000-I) |
4 (300-FBG) |
7 (500-FBG) |
– | 2 | 4 | 4 | 6 | ||
| パルス幅(ns) | 5-8 | 5 | 5-8 | ||||||||
ダウンロード資料
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注意事項
※商品のデザイン、仕様は予告なく変更する場合がありますのでご了承ください。詳細は各営業担当までお問合せください。
応用例
(Courtesy of Carl Zeiss Meditec, Germany)
